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环境评估平台

真空磁控离子溅射镀膜仪
发布日期:2022-09-26         点击量:

品牌

QUORUM

型号

Q150V S Plus

放置地点

继续教育学院104

负责人

徐晓龙/王向科

联系方式

15656017000/13424924251

使用方式

培训预约使用

主要技术指标

1. 真空系统:5m3/hr旋转机械泵+70L/s风冷涡轮分子泵(仪器内部);系统极限真空度为1 x 10-6 mbar;溅射工作真空范围:镀金时真空在5x 10-3和1 x 10-1mbar之间;

2. 溅射电流:0-150mA连续可调;采用低电压恒流冷溅射方式;

3. 溅射时间:可预设溅射时间;一次真空条件下1-3600秒连续可调;

4. 溅射靶材:标配直径57mm圆片铬靶1块。

研究领域

制备各类金属、非金属的功能性薄膜。

测试内容

管理办法

□有 □无

委托测试单

□有 □无

仪器状态

正常

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