真空磁控离子溅射镀膜仪

放置地点

继续教育学院104

负责人

黎妍文

仪器生产厂家及型号

QUORUM  Q150V S Plus

仪器研究方向

制备各类金属、非金属的功能性薄膜

仪器主要功能用途及参数

主要功能：Q150V Plus是一款高真空应用的超精细镀膜设备，其极限真空度为1x10-6mbar。 结合使用宽量程潘宁规和皮拉尼规，可以溅射具有超细成膜颗粒尺寸的易氧化金属，适用于高分辨率成像。 更低的背底负压去除了腔室中的氧氮和水汽，避免在溅射过程中发生化学反应以及在镀膜过程中产生的杂质或缺陷。 同样地，较低的散射可得到高纯而致密的无定形碳膜。 Q150V Plus除具有Q150T Plus的所有优点外，还可获得更细成膜颗粒尺寸和更薄的膜，适用于超高分辨率应用（放大倍数高于200,000倍）。

核心参数：

1. 真空系统： 5m3/hr 旋转机械泵＋70L/s 风冷涡轮分子泵（仪器内部）；系统极限真空度为1 x 10-6 mbar；溅射工作真空范围：镀金时真空在5x 10-3 和1 x 10-1mbar 之间；

2. 溅射电流：0-150mA 连续可调；采用低电压恒流冷溅射方式；

3. 溅射时间：可预设溅射时间；一次真空条件下1-3600 秒连续可调；

4. 溅射靶材：标配直径57mm 圆片铬靶 1块。

测试内容及领域

一、常见测试类型和项目：

制备各类金属、非金属的功能性薄膜

二、主要应用领域：

 超高分辨率放大SEM应用

 TEM载网镀碳

 FIB保护性铂层

 腐蚀，摩擦和磨损保护层的研发

 医疗设备上的保护层

 BSE 成像

EDX，WDS，EBSD 分析

 碳复型膜

 纳米技术，如：沸石，聚合物纳米刷

注意事项（仪器使用和样品制备）

主要操作性能：

1. 离子溅射：溅射电流可设范围宽，至预设厚度（需选用FTM）终止或定时终止。可设溅射时间宽，无需破真空，自动内置冷却占空比。

2. 蒸镀：可用碳棒（可选碳绳）蒸镀碳膜；选用钨篮或钼舟进行金属热蒸发；选用标准钼舟清洁TEM光阑

3. 可视化状态指示

大而多色的LED指示灯，使用户在一定距离就可轻松识别过程状态。指示灯可显示以下状态：

◆ 初始化中 ◆ 程序运行

◆ 空闲状态 ◆ 正在镀膜

◆ 程序完成 ◆ 故障停机状态

程序完成后音频声音提示

主要配件及拓展功能（选填）

仪器操作指引：（选填）

    见操作指南文件。