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磁控溅射镀膜系统

2012-12-07 11:48:09人浏览

仪器名称:磁控溅射镀膜系统





型号:FJL450E磁控与离子束复合溅射设备


应用范围:磁控溅射技术是利用带电离子在电磁场的作用下,轰击靶物质,被溅射出来的原子以一定的动能射向衬底,在衬底上形成薄膜。磁控溅射的特点是:对多种材料有效、沉积速率高、低能溅射。

存放地点:陈瑞琪科学馆207房